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上海电子材料公司半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目配套环保处理设施

拟建上海 更新:2025-04-23 07:00:50

项目介绍

上海电子材料公司半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目配套环保处理设施位于上海,属于机械电子电器类项目[机电其他],该项目是新建,企事业类;已到环评阶段,在全国工程立项情报平台建强金项上发布后,目前最新标记状态是环境影响评价,项目计划投资金额为5460-6600万元。

上海润平电子材料有限公司本次拟投资6000万元,租赁上海市浦东新区临港片区泥城镇云淡路33号1号楼1层、2层,建设“半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目”(以下简称“本项目”),从事硅片保持环生产,年产硅片保持环50000个。
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环境影响评价新建项目环评立项
📍 上海本地:环境影响评价新建项目环评立项
项目名称:上海电子材料公司半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目配套环保处理设施
项目名称:上海电子材料公司半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目配套环保处理设施
项目编号:776285
投资金额:5460-6600CNY 万元
所属行业:机械电子电器-机电其他
建设性质:新建
当前阶段:环评
进展描述:环境影响评价
资金来源:自筹
业主类型:企事业类
项目等级:拟建
所在地区:上海
计划开工时间:2025年
更新时间:
建设内容:上海润平电子材料有限公司本次拟投资6000万元,租赁上海市浦东新区临港片区泥城镇云淡路33号1号楼1层、2层,建设“半导体化学机械抛光(CMP)材料与设备新建项目”(以下简称“本项目”),从事硅片保持环生产,年产硅片保持环50000个。
数据来源:建强金项
发布者:建强金项
当前版本号:1