45nm压印光刻机用IC光罩产业化项目
项目介绍
45nm压印光刻机用IC光罩产业化项目位于浙江绍兴，属于建筑房地产类项目[厂房]，该项目是新建，企事业类；已到立项阶段，在全国工程立项情报平台建强金项上发布后，目前最新标记状态是备案，项目计划投资金额为27300-33000万元。
项目位于浙江省绍兴市柯桥区钱清街道光电路88号2幢，产权证为浙（2025）绍兴市柯桥区不动产权第0006471号，建筑面积28585.84平方米，拟利用其中的厂房984.41平方米，购置光掩膜缺陷检测设备1台、光掩膜量测设备1台，设备可用于生产纳米压印光刻用光罩，主要技术指标可达到（1）.线路宽度：45 nm（2）.图形线路宽度均匀性：4.5 nm（3）.图形位置精度：5 nm，项目完成后预计可实...
🔑 请登录 查看完整项目信息（联系人、环评、进展、附件等）