广州卓岳半导体有限公司先进碳化硅材料研发及产业化项目

目租赁厂房建筑面积约 6000 平方米，购置化学气相沉积（CVD）设备及配套切割加工、检测、净化等设施，建设高纯碳化硅块体材料研发及产业化项目，形成年产 10000 件高纯碳化硅块体材料的生产能力，产品主要应用于半导体设备零部件、精密光学等高端领域。项目总投资约 3000万元，资金来源为企业自有资金。