东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区
项目介绍
东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区位于湖北武汉,属于机械电子电器类项目[机电其他],该项目是新建,市政类;已到立项阶段,在全国工程立项情报平台建强金项上发布后,目前最新标记状态是备案,项目计划投资金额为227500-275000万元。
总用地面积约158665.08平方米(具体以用地红线图为准),总建筑面积约23.3万方,主要建设生产厂房,研发厂房及配套设施,主要用于硅基氮化镓芯片生产制造
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