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东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区

审批湖北 武汉 更新:2026-08-05 07:00:55

项目介绍

东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区位于湖北武汉,属于机械电子电器类项目[机电其他],该项目是新建,市政类;已到立项阶段,在全国工程立项情报平台建强金项上发布后,目前最新标记状态是备案,项目计划投资金额为227500-275000万元。

总用地面积约158665.08平方米(具体以用地红线图为准),总建筑面积约23.3万方,主要建设生产厂房,研发厂房及配套设施,主要用于硅基氮化镓芯片生产制造
项目名称:东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区
项目名称:东湖高新区硅基氮化镓半导体产业园区
项目编号:1717623
投资金额:227500-275000CNY 万元
所属行业:机械电子电器-机电其他
建设性质:新建
当前阶段:立项
进展描述:备案
资金来源:自筹
业主类型:市政类
项目等级:审批
所在地区:湖北 - 武汉
计划开工时间:2026-12
更新时间:
建设内容:总用地面积约158665.08平方米(具体以用地红线图为准),总建筑面积约23.3万方,主要建设生产厂房,研发厂房及配套设施,主要用于硅基氮化镓芯片生产制造
数据来源:建强金项
发布者:建强金项
当前版本号:1