PVD金属沉积设备真空反应腔开发（一期）

在半导体制造中，空气中的氧气、水蒸气和尘埃等杂质会对晶圆造成污染，导致器件失效。不锈钢腔体通过创造一个超高真空(UHV)环境，有效隔绝了这些干扰，确保了工艺的精确性和稳定性。半导体不锈钢腔体是一种高精度的真空容器，广泛应用于半导体产业的光刻机、刻蚀设备、离子注入设备、金属沉积设备（PVD）、薄膜沉积设备（如PECVD）等关键工艺中。项目产业化后实现年销售3000万元利润300万，实现税收100万。