年产20000m第三代半导体封装用薄膜电路陶瓷基板工艺流程技术改造项目
项目介绍
年产20000m第三代半导体封装用薄膜电路陶瓷基板工艺流程技术改造项目位于江西南昌,属于机械电子电器类项目[机电其他],该项目是改扩建,企事业类;已到立项阶段,在全国工程立项情报平台建强金项上发布后,目前最新标记状态是备案,项目计划投资金额为46-55万元。
本项目拟对微蚀液产线进行技术改造,主要购置微蚀废液生产线一条及配套设施设备(占地面积35平方米,购买型号为SC-W100)项目建成后预计月处理量100吨,可实现处理后的废液为铜离子浓度在2g/L左右,含有5%硫酸的废液,达到回收铜及药水回用的目的,大幅减轻环保处理压力。工艺变化:由之前的含铜微蚀废液-排放污水站,变更为含铜微蚀废液-经过微蚀废液生产线-电解提纯铜-废液重金属含量达标排放污水站。
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