武汉国科光领光子科技有限公司建设项目

以IDM模式，规划2亿颗EML、CW Laser、 DFB等系列芯片制造基地；采购国内外一线的光刻机、MOCVD，ICP等800多台套高端设备；建设3栋芯片制造厂房及动力配套辅助设施和研发楼、宿舍等提供800人以上岗位。占地119.36亩，总建筑面积：158909.14平方米。