中微半导体南昌高新区生产基地生产研发楼4层及生活楼2至6层提升改造工程

本项目为中微南昌公司生产基地配套提升改造工程，总建筑面积约7242平方米。工程主要涵盖两栋单体建筑的室内改造：生产研发楼：对第4层进行整体改造，建筑面积约3417.2平方米；生活楼（北栋）：对第2至第6层进行整体改造，建筑面积约3824.8平方米。主要建设内容包括上述区域的室内拆除工程、天花吊顶、墙面及地面铺装、隔断工程，以及配套的室内电气照明、给排水管网、弱电智能化布线及消防设施的更新改造等。