年产2000吨先进半导体薄膜沉积前驱体生产基地

审批福建泉州更新：2026-06-16 07:03:22

项目介绍

年产2000吨先进半导体薄膜沉积前驱体生产基地位于福建泉州，属于机械电子电器类项目[机电其他]，该项目是新建，企事业类；已到立项阶段，在全国工程立项情报平台建强金项上发布后，目前最新标记状态是备案，项目计划投资金额为100100-121000万元。

用地面积296亩，建设年产2000吨先进半导体薄膜沉积前驱体生产基地，产品包括钴、钨等10种系列前驱体，涉及22种产品（Co前驱体（15t/a八羰基二钴、4t/aCpCo(CO)2、4t/aCCTBA）、Ta前驱体（4t/a五氯化钽、2t/aPDMAT）、high-k前驱体（50t/a四氯化铪、10t/aCpHf、9t/aTEMAZ）、Sn前驱体（9t/aTDMASn）、Ru前驱体（0.1t/aC...

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