基于MEMS（微机电系统）光刻新技术新产品平台研发项目
项目介绍
基于MEMS（微机电系统）光刻新技术新产品平台研发项目位于浙江杭州，属于机械电子电器类项目[机电其他]，该项目是新建，企事业类；已到环评阶段，在全国工程立项情报平台建强金项上发布后，目前最新标记状态是环境影响评价审批结果公示，项目计划投资金额为9100-11000万元。
本项目拟利用E楼三层作为实验场所，对IM晶片及TCXO产品（温度补偿型石英晶体谐振器）的生产工艺进行研究。主要工艺包括植金球、切割、清洗、倒装、灌胶、固化、镀膜、光刻胶涂布、曝光、显影、蚀刻、去胶等。项目建成后研发样品作为不合格品处理。
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