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中微公司华南总部及半导体、泛半导体设备研发生产基地一期项目

审批广东 广州 更新:2026-03-11 07:00:21

项目介绍

中微公司华南总部及半导体、泛半导体设备研发生产基地一期项目位于广东广州,属于机械电子电器类项目[机电其他],该项目是新建,企事业类;已到环评阶段,在全国工程立项情报平台建强金项上发布后,目前最新标记状态是环境影响评价审批结果公示,项目计划投资金额为91000-110000万元。

主要从事半导体设备的生产、研发,生产仅包括组装、测试和包装,整机测试工序均在真空、保压状态下进行,再使用气枪喷射氦气进行气密性检测,不涉及通入特气进行反应测试,年产12台Gen8.6代等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备、3台蚀刻(Etch)设备,建设3个Gen4.5代等离子增强化学气相沉积(PECVD)研发机台、3个干法蚀刻(DryEtch)研发机台、1个原子沉积(ALD)研发机台。研发主要...
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环境影响评价半导体设备一期项目环评立项审批
📍 广东本地:环境影响评价半导体设备一期项目环评立项审批
项目名称:中微公司华南总部及半导体、泛半导体设备研发生产基地一期项目
项目名称:中微公司华南总部及半导体、泛半导体设备研发生产基地一期项目
项目编号:1414664
投资金额:91000-110000CNY 万元
所属行业:机械电子电器-机电其他
建设性质:新建
当前阶段:环评
进展描述:环境影响评价审批结果公示
资金来源:自筹
业主类型:企事业类
项目等级:审批
所在地区:广东 - 广州
更新时间:
建设内容:主要从事半导体设备的生产、研发,生产仅包括组装、测试和包装,整机测试工序均在真空、保压状态下进行,再使用气枪喷射氦气进行气密性检测,不涉及通入特气进行反应测试,年产12台Gen8.6代等离子增强化学气相沉积(PECVD)设备、3台蚀刻(Etch)设备,建设3个Gen4.5代等离子增强化学气相沉积(PECVD)研发机台、3个干法蚀刻(DryEtch)研发机台、1个原子沉积(ALD)研发机台。研发主要...
数据来源:建强金项
发布者:建强金项
当前版本号:1