叠层氧化硅、氮化硅湿法蚀刻设备厂房建设项目

租赁厂房用地和附属设施，洁净室装修、纯水站建设，化学品间及输送系统建设和机电安装工程，系统、辅助设备和工具购置空气净化设备系统一套，超纯压缩空气设备系统一套，超纯水处理供给设备一套，超纯化学品输送设备一套，废气处理设备一套，废液收集系统一套。预计投资5000万，达产后年产3套清洗设备，形成具备半导体清洗设备生产能力厂房。