中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购评标结果公示公告
项目详情
【中国国际招标网】
项目名称:中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购
招标项目编号:0722-264JT2007ZB6
招标范围:
(1)具有稳定可靠的晶圆厚度补偿系统,可对晶圆进行自调平和真空吸附。
(2)通过计算机软件进行工艺参数的设定、设备的控制等。
(3)最大有效曝光范围:150mm。
(4)具备晶圆正面和背面套刻,可实现双面光刻工艺。
招标机构:中国远东国际招标有限公司
招标人:中国电子科技集团公司第十三研究所
开标时间:2026-08-20 13:00
公示开始时间:2026-08-31 11:24
评标公示截止时间:2026-09-03 23:59
中标候选人名单:
项目名称:中国电子科技集团公司第十三研究所接触光刻机设备采购
招标项目编号:0722-264JT2007ZB6
招标范围:
(1)具有稳定可靠的晶圆厚度补偿系统,可对晶圆进行自调平和真空吸附。
(2)通过计算机软件进行工艺参数的设定、设备的控制等。
(3)最大有效曝光范围:150mm。
(4)具备晶圆正面和背面套刻,可实现双面光刻工艺。
招标机构:中国远东国际招标有限公司
招标人:中国电子科技集团公司第十三研究所
开标时间:2026-08-20 13:00
公示开始时间:2026-08-31 11:24
评标公示截止时间:2026-09-03 23:59
中标候选人名单:
| 候选人排名 | 投标商名称 | 制造商 | 制造商国别及地区 |
|---|---|---|---|
| 1 | SUSS MicroTec Lithography GmbH | SUSS MicroTec Solutions GmbH & Co. KG | 德国 |